MISUZU Original Product
ヒーター関連製品
美鈴工業が自らの技術と発想で生み出した、
オリジナル製品をご紹介します。
複合機・半導体製造を支える
次世代スチールヒーター
「より速く、より均一に、よりクリーンに。」
MISUZUのスチールヒーターは、複合機や半導体製造装置の"心臓部"で活躍する加熱ユニットです。
高速昇温、均一な温度管理、クリーン環境でも安定動作を実現し、
生産性と品質を大きく向上させます。
スチールヒーターとは？
スチールヒーターは半導体製造装置に搭載され、工程で必要な加熱処理や、複合機でのトナー定着を効率化する部品です。 特許技術による温度制御と、省エネ設計で、従来のヒーターに比べて生産効率を大きく改善します。
どこで使われている？
複合機（コピー機・プリンター）
半導体製造装置・FPD製造装置
自動車（EV）
4つの特徴
クイックレスポンス
従来比で約3倍の昇温スピード。立ち上がりが速く、待ち時間短縮。
クリーン対応
真空環境や窒素（N₂）雰囲気下でも安定稼働。半導体製造に最適。
発塵ゼロ設計のため、クリーンルーム下でも汚染なし。
高効率 IR&均一加熱
高効率IRで効率的に加熱、特許技術で均熱加熱を実現。
薄膜形状や特殊サイズ
薄膜化、特殊形状にも対応可能で設計の自由度が高い。
高効率 IR&均一加熱
高効率IRで効率的に加熱、特許技術で均熱加熱を実現。
薄膜形状や特殊サイズ
薄膜化、特殊形状にも対応可能で設計の自由度が高い。
受注生産
受注設計開発から量産まで対応しています。
初期検証として、下記製品ラインナップを使用することもできます。
製品ラインナップ
| 照射面サイズ | 124×124 |
|---|---|
| 使用温度 （照射面温度） |
常用：400℃以下 瞬間最高：500℃以下（新規開発品：常用500℃・瞬間最高600℃） |
| 入力電源、 出力（2タイプ） |
入力 AC200V時⇒出力 1000W 入力 AC100V時⇒出力 500W |
| 採用例 | FPD 製造装置（連続炉）、半田リフロー、タッチアップ装乾燥用、等 |
| その他 | M-04タイプとの組み合わせで、照射面サイズを自由に設計可能 |
| 照射面サイズ | 124×248 |
|---|---|
| 使用温度 （照射面温度） |
常用：400℃以下 瞬間最高：500℃以下（新規開発品：常用500℃・瞬間最高600℃） |
| 入力電源、 出力（2タイプ） |
入力 AC200V時⇒出力 1000W 入力 AC100V時⇒出力 500W |
| 採用例 | FPD 製造装置（連続5）、半田リフロー、半導体製造装置等真空チャンバー、等 |
| その他 | M-03タイプとの組み合わせで、照射面サイズを自由に設計可能 |
| 照射面サイズ | 350×280 |
|---|---|
| 使用温度 （照射面温度） |
常用：400℃以下 瞬間最高：500℃以下（新規開発品：常用500℃・瞬間最高600℃） |
| 入力電源、 出力（2タイプ） |
入力 AC200V時⇒出力 1200W （～3000W程度までカスタマイズ可能） |
| 採用例 | FPD・太陽電池・半導体などの製造装置等 特に真空チャンバーやN2雰囲気炉 |
| その他 |
| 照射面サイズ | 1210×256 |
|---|---|
| 使用温度 （照射面温度） |
常用：400℃以下 瞬間最高：500℃以下（新規開発品：常用500℃・瞬間最高600℃） |
| 入力電源、 出力（2タイプ） |
入力 AC220V時⇒1000W（at250℃） |
| 採用例 | FPD 製造装置等 |
| その他 | 複数枚を組み合わせることで、様々なサイズのワークに対応可能 |
製品案内資料
「Steel Heater」の資料(PDF)を無料でダウンロードしていただけます。
以下のフォームより個人情報の入力を行うことでダウンロードが可能です。
試作から量産まで対応可能。新規受注開発/共同開発、標準ヒーターのカスタマイズ承ります。
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